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簡述孔蝕的機(jī)理

在孔蝕發(fā)生的時(shí)候一般都有一個(gè)誘導(dǎo)期。這是由于處于鈍態(tài)的金屬仍然有一定的反應(yīng)能力,即鈍化膜的溶解和修復(fù)處于動態(tài)平衡。當(dāng)介質(zhì)中含有活性陰離子(如氯離子)時(shí),平衡受到破壞,溶解占優(yōu)勢,其原因是氯離子優(yōu)先選擇性地吸附在鈍化膜上,把氧原子擠掉,然后和鈍化膜中的陽離子結(jié)合形成可溶性氯化物,結(jié)果在新露出的基底金屬的特定點(diǎn)上生成小蝕坑。這些小孔坑被稱為孔蝕核,也可以理解為蝕坑生成活性中心。

蝕核形成之后,該特點(diǎn)仍有再鈍化的能力,若再鈍化的阻力小,蝕核就不再長大,此時(shí)小蝕坑呈開放式。

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