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孔蝕的原理是什么

從理論上講,蝕核可在鈍化金屬的光滑表面上任何地點形成,隨機分布,但是當(dāng)鈍化膜局部有缺陷的時候,內(nèi)部就有硫化物夾雜,晶界上有碳化物沉積等時,蝕核將在這些特定點上優(yōu)先形成。

在大多數(shù)的情況下,蝕核將繼續(xù)長大。當(dāng)孔蝕核長大到一定臨界尺寸的時候,金屬的表面就會出現(xiàn)宏觀可見的蝕孔,蝕孔出現(xiàn)的特定點稱為孔蝕源。

在外加陽極極化的條件下,介質(zhì)中只要含有一定量的氯離子便可能使蝕核發(fā)展為蝕孔。在自然腐蝕的條件下,含氯離子的介質(zhì)中有溶解氧或陰離子氧化劑的時候,也會促使蝕核長大成蝕孔。氧化劑能促進(jìn)陽極過程,使金屬的腐蝕電位上升至孔蝕臨界電位以上。

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